>목포대학교에서 플라즈마 응용 박막에 대해 연구하는 학생입니다..
>
>궁금한게 있어서요~
>
>현재 저희 장비의 2차 펌프는 T.M.P입니다.
>
>음~ 저희는 장비 실험이 끝나고 TMP를 냉각의 이유로 3시간동안~ OFF Time을 주고  전원을 내립니다..
>
>항상 의문이였거든요~ 꼭 3시간동안 장비를 켜놔야하나?  
>
>칠러나 장비가 장동하는데~ 소음이 심하다라는게 거슬리고
>
>또  TMP를 냉각하는 3시간동안 저의 시간이 자유롭지 못 한것도  하나의 이유이구요!
>
>
>
>그래서 한번은  TMP를 분리해 보았습니다..
>근데 통신케이블 과 전원 케이블  ,냉각수 라인 밖에 없더군요...
>
>
> 진공을 해제할때 TMP 스위치를 내리는데~ 그러면 TMP전원은  들어오지 않죠~
>당연히 데이터 이동도 필요없고 그져 냉각수만 돌려주면 될껏같은데
>
>결론으로 제 생각은요~ 냉각수 1시간만 돌려도 ,TMP는 차가워지는걸 알수잇는데~~
>
>오일확산펌프처럼 손으로 만져서 차가워지면 꺼도 되나요??
>
>아니면 냉각이 아닌 어떤 다른 이유가 있나요??
>
>궁금해 죽겟습니다... 도와주세요
================================================================
질문하신 내용을 제가 이해한 정도로 답변드립니다. 진공 기술 관련 실무적인 내용을 공부하실려면 "홍릉출판사, 진공기술실무"를 참고하십시오.

내용은 다음과 같습니다.

1. TMP를 2차 펌프라고 하신 부분
2. TMP를 냉각
3. TMP 정지
4. 그러면 얼마나 기다려야 할까요 ?
5. Oil Diffusion pump(오일 확산 펌프)


1. TMP를 2차 펌프라고 하신 부분 : 통상 chamber 가까운 쪽 부터(일반적으로 고진공 펌프) 1차 펌프라고 하고 고진공 펌프(TMP, diffusion, cryo)를 2차 펌프라고 합니다.

2. TMP를 냉각 : 위 내용으로 보아서 TMP가 수냉식인 것으로 생각됩니다. 왜 굳이 3시간씩이나 냉각하시는지 모르겠습니다. TMP를 냉각하는 이유는 펌프 내부에서 발생하는 압축열로 인하여 전장품이 손상을 받지 않도록 하기 위해 특정한 부위(모델마다 약간 씩 다름)를 냉각하여 하고, 또 다른 이유는 기체를 압축하면 발생하는 압축열에 의해 기체 분자의 온도가 증가하고 이로 인하여 기체 분자의 운동 에너지가 증가하게 됩니다. 이렇게 기체 분자가 갖고 있는 운동 에너지가 증가하면 TMP 입장(모든 진공 펌프 입장)에서 배기하기가 힘들어집니다. 그래서 냉각을 합니다. TMP가 과도하게 가열되어 있지 않은 경우라면 이 내용은 TMP를 정지시키는 것과는 무관합니다.

3. TMP 정지 : TMP는 고속으로 수 천 ~ 수만 rpm으로 회전하고 있습니다. 따라서, TMP의 전원 스위치를 내린다고 해서 2차 펌프(rotary, dry pump 등) 처럼 바로 정지하지 않습니다. 다시 말해서 전원 스위치를 내린 이후에도 TMP housing(stator) 내부에서는 rotor가 계속 회전하고 있습니다. 이 rotor가 완전히 정지하기 전까지는 시간이 필요하기 때문에 기다리셔야 합니다. 그렇지 않으면 여전히 회전하고 있는 rotor에 생길 수 있는 문제(충격, 진공 파괴, 진동 등 여러 가지 요인)로 인하여 rotor 파손같은 문제가 생길 수 있습니다. 즉, 고속 회전하고 있는 rotor가 stator와 접촉하게 되면 rotor와 stator가 완전히 파손될 수도 있습니다. 심한 경우 chamber 내부도 손상받을 수 있습니다.

4. 그러면 얼마나 기다려야 할까요 ? 정답은 rotor가 완전히 정지할 때 까지 입니다. TMP controller 상에 아마도 회전수(rpm)가 display 될 겁니다. 그때까지는 기다리셔야 합니다. 학교에서 비싼 TMP 고장내면 안되잖습니까 ? 지도 교수님뿐만 아니라 장비를 같이 사용하는 동료들에게도 민폐고 ...

5. Oil diffusion pump(오일 확산 펌프)
아시는 것 처럼 오일 확산 펌프는 장착된 heater를 이용하여 오일을 가열하여 고속의 증기를 만들어 배기하는 방식입니다. Mechanism상 nozzle에서 방출된 오일 증기가 배기 기능을 한 후에 내부 벽에 붙게 되고 이 오일이 다시 heater 쪽으로 이동하기 쉽게(기화되어 chamber 쪽으로 가지 않게)하기 위해 벽면을 냉각합니다. 실험이 끝나면 가열된 오일이 공기와 접해서 산화되고 성질이 변하는 것을 막기 위해 당연히 냉각을 통해 오일을 적정 온도 이하로 내려 주어야 합니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2361
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12954
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49619
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61116
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79628
659 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 28
658 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 65
657 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 72
656 etch defect 관련 질문드립니다 90
655 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 107
654 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 110
653 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 141
652 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 147
651 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 147
650 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 157
649 doping type에 따른 ER 차이 [1] 165
648 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 179
647 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 182
646 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 204
645 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 208
644 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 209
643 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 218
642 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 221
641 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 222
640 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 233

Boards


XE Login