안녕하세요,


전기집진기쪽 개발을 하고 있는 엔지니어 입니다. 


코로나 방전을 이용한 하전을 하고 있는데요, 이쪽이 전문분야가 아니라 몇가지 궁금한 내용이 있어서 질문드립니다.


1. 2가지 하전부에 대한 실험을 예를 들었을때

 실험 조건1)  직경이 2cm인 원통형 하전부에서 가운데에 침상형의 방전극을 두고  원통은 GND, 방전극에 2kV 전압을 걸었을때, 10um의 코로나 전류가 측정됐다고 가정하고

  실험 조건2) 직경이 2cm인 원통형 하전부에서 가운데에 침상형의 방전극을 두고  원통은 GND, 방전극 1kV 전압을 걸었을때, 동일하게 10um 코로나 전류가 발생했다고 하면,

  동일한 코로나 전류가 발생한다는것은, 각각에서 발생한 이온의 갯수가 동일하다고 판단해도 될까요??

  1) 발생한 이온의 갯수는 동일, 단위면적당 이온의 갯수는 직경이 직경이 1cm인 하전부가  높다

  2) 발생한 이온의 갯수는 직경이 2cm인 하전부가 많으나, 단위 면적당 이온의 갯수는 동일하다

어떤것이 맞는 얘기가 되나요??


2. 코로나 전류는 입력 전압에 비례하고, GND와 방전극 사이의 거리에 반비례 하는데, 이것데 대한 그래프나, 식을 알수 있을까요?

    실제로 실험시에는 linear하게 출력이 나오지 않는데요.. 이론적으로 판단할수 있는 식을 알수 있었으면 합니다.


3. 먼지의 하전에 대한 질문입니다.

    입자가 하전률에 영향을 미치는 요소는

    1) 단위 면적당 이온의 개수(밀도)

    2) 하전영역에 걸리는 E field(이온의 가속)

    3) 유속

이렇게 3가지 요소 정도로 생각하고 있습니다만,  추가로 더 고려해야 할부분이 있을까요?

  이온의 밀도의 경우는 코로나 방전에 의한 이온의 밀도 분포에 따라 정해지는것 같고,

 하전영역에 대한 E field는 영향을 줄꺼라고 판단되지만, 정확하게 어느정도의 영향을 끼치는지 판단하기가 힘듭니다. 참고할만한 이론이나 식이 있다면, 확인 부탁드리겠습니다.

3가지 요소로 판단했을때,


앞의 질문에서 실험 조건1) 과 실험 조건2)에 따라 먼지 하전에 어떤 조건이 유리한지에 대한것이 궁극적인 질문입니다.

  같은 코로나 전류가 흐른다는 가정하에, 1)단위 면적당 이온의 개수 와, 3) 유속은 동일한 비율로 상쇄되어 동등하다고 판단되고

(유속은 단면적에 반비례하니), 2) E field의 영향으로 인하여 높은 전압이 걸리는 실험 조건 1이 좀더 입자의 하전에 유리하다고 생각하면 될까요?? 아니면 다른 의견이 있으신지 궁금합니다.


이론적인 base가 부족하다 보니 실험적으로 결론을 내기에는 힘든 부분들이 많습니다.

알고계신 범위내에서 답변을 주신다면 정말 감사 드리겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] update 12
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 29
781 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 35
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 39
779 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 50
778 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 55
777 Microwave & RF Plasma [1] 64
776 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 70
775 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 74
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 82
773 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 93
772 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 100
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 104
770 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 113
769 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 118
768 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 129
767 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 129
766 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 135
765 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 141
764 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 154

Boards


XE Login