Others ICP 후 변색 질문
2018.01.23 19:11
안녕하십니까.
현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.
ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.
BCl3 gas를 이용한 ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.
황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)
이와 관련.
1. Oxygen의 숫자 부족
2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.
Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.
혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.
어떠한 내용이라도 좋습니다.
위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.
ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68672 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92182 |
787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 50 |
786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 54 |
785 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 60 |
784 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 61 |
783 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 67 |
782 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 67 |
781 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 78 |
780 | CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] | 83 |
779 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 95 |
778 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 96 |
777 | skin depth에 대한 이해 [1] | 99 |
776 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 101 |
775 | Microwave & RF Plasma [1] | 103 |
774 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 117 |
773 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 126 |
772 | Non-maxwellian 전자 분포의 원인 | 129 |
771 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 135 |
770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 139 |
769 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 146 |
768 | CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] | 149 |