안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 22
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 35
781 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 37
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 39
779 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 50
778 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 56
777 Microwave & RF Plasma [1] 67
776 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 72
775 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 75
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 83
773 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 94
772 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 104
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 108
770 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 118
769 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 123
768 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 129
767 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 131
766 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 141
765 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 147
764 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 156

Boards


XE Login