안녕하십니까, 식각공정 장비 담당하는 회사원입니다. 

장비에서 올라오는 신호로 Plasma에 대해 해석을 하는 경우가 있는지 알고싶습니다.

양산라인에서 쓸만한 Monitoring Method에 대해서도 알고싶습니다.


제 주 업무는 장비에서 올라오는 신호들을 분석하는 것인데요,

(저희 부서에서는 일본계 회사 제품을 사용하고있습니다.)


업무를 하다보면 제품 온도 변화 혹은 내부 상태의 변화에 따라 불량이 발생하는 경우가 자주 있습니다.

아쉬운 점은 이걸 장비 신호로 플라즈마의 공정상 영향을 미치는 정보들이 해석이 안되는 경우가 많습니다.

(특정 구간에서 불량이 검출되었으나 Trend 상으로 전혀 문제가 없어 보이는)


센서 심화를 더 시켜야 하는것인지 고민될때가 많습니다.(H/W적인 변경점을 주는것은 상당히 어렵습니다만)

연구실에서 사용하는 방법론들에 대해 알려주시면 많은 도움이 될 것 같습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77211
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57362
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68901
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92946
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. 10
805 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 22
804 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 22
803 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 36
802 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 40
801 Druyvesteyn Distribution 47
800 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 54
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 58
798 플라즈마 식각 커스핑 식각량 60
797 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 67
796 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 74
795 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 76
794 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 82
793 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 86
792 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 89
791 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 90
790 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 91
789 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 102
788 플라즈마 설비에 대한 질문 110
787 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 118

Boards


XE Login