안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [46] 963
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 748
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49342
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 58726
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 72988
628 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 87
627 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 102
» 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 137
625 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 138
624 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 142
623 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [1] 146
622 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 150
621 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 150
620 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 157
619 anode sheath 질문드립니다. [1] 163
618 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 165
617 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 165
616 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 171
615 라디컬의 재결합 방지 [1] 171
614 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 173
613 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 175
612 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 177
611 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 181
610 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 190
609 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 191

Boards


XE Login