Matcher RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다.
2021.07.05 14:38
안녕하세요. 에칭 장비 Eng'r로 근무중에 있습니다.
한가지 문의 사항이 있어서 이렇게 글을 작성하게 되었습니다.
Matcher에 연결되어 있는 60Mhz RF 케이블에서 발열현상이 나타나고 있습니다.
-> 케이블 피복 온도가 70도 이상 상승.
RF 케이블의 발열 현상이 정상적인 현상인지 아니 설계적 약점이나 매칭 불안정에서
나타나는 현상인지 궁금해서 문의드립니다.
그리고 케이블 발열 현상이 어떤 문제가 발생될수 있는지 문의 드립니다.
감사합니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20179 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57166 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68697 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92275 |
| 789 |
플라즈마 설비에 대한 질문
 | 6 |
| 788 | RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] | 33 |
| 787 | 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] | 53 |
| 786 | Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] | 56 |
| 785 | 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] | 62 |
| 784 | 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 | 68 |
| 783 | Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] | 77 |
| 782 | RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] | 80 |
| 781 | 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] | 85 |
| 780 | RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] | 100 |
| 779 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1]  | 107 |
| 778 | Microwave & RF Plasma [1] | 110 |
| 777 | sputtering 을 이용한 film depostion [1] | 111 |
| 776 | skin depth에 대한 이해 [1] | 122 |
| 775 | 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] | 123 |
| 774 | ICP에서의 Self bias 효과 [1] | 123 |
| 773 | DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] | 136 |
| 772 | ICP에서 전자의 가속 [1] | 136 |
| 771 | LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] | 146 |
| 770 | 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] | 146 |