CCP capacitively/inductively coupled plasma

2004.06.21 15:12

관리자 조회 수:17834 추천:254

capacitively/inductively coupled plasma

한가지 잘 못 이해하고 있는 것이 있습니다. 전극이 반응기 내외부에 있는 여부로 ICP/CCP 플라즈마를 구별하지 않습니다.
일반적으로 capacitively coupled plasma 는 전극 사이에 형성되는 전기장에 의해 전자가속이 일어나 에너지를 얻어 이온화에
의해 만들어진 플라즈마를 의미하며 Inductively coupled plasma는 말 그대로 안테나에 흐르는 전류에서 형성된 자기장이 시간이
따라서 변할 때 자기장 주변으로 형성되는 전기장으로 부터 전자가 가속 에너지를 얻고 이온화를 통해 만들어진 플라즈마를
의미하는 말로써 써야 합니다. 물론 일반적인 ICP 반응기에서 CCP현상에 의한 플라즈마 발생이 일어나기도 합니다.
약간의 혼돈은 여기서 생길 수 있습니다만 두 현상을 구분해서 이해하는 것이 좋습니다.
아울러 다음 항을 참고하기 바랍니다. (271/259/225/205/126/95)
냉각수로 power leak가 있을 수도 있습니다. 일반 가정용 물을 냉각수로 사용하는 것은 좋은 방법이 아닙니다. 적어도 증류수를 사용하도록 하는 편이 옳습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77536
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20613
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57553
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69053
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93215
634 교수님 질문이 있습니다. [1] 795
633 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 801
632 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 804
631 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 808
630 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 819
629 플라즈마 충격파 질문 [1] 822
628 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 822
627 Collisional mean free path 문의... [1] 823
626 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 828
625 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 828
624 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 834
623 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 836
622 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 841
621 라디컬의 재결합 방지 [1] 845
620 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 846
619 PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다. [1] 852
618 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 853
617 RF 파워서플라이 매칭 문제 861
616 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 865
615 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 867

Boards


XE Login