Plasma in general 데포 중 RF VDC DROP 현상
2021.07.29 15:44
안녕하세요 반도체회사 장비 엔지니어입니다.
박막 과정 데포 중 RF VDC가 드랍 되는 현상이 있습니다. GAS양, CH 내 PRESSURE, 등등 변하는 것이 없는데 왜 갑자기 DROP 되는 걸까요?
영향을 줄만한 인자가 어떤 것이 있을까요? 장비를 잘 쓰다가 갑자기 DROP이 일어나고 그 이후는 다시 올라 오지 않습니다 ㅠ
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76722 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20172 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57165 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68696 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92273 |
588 | CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] | 972 |
587 | Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] | 973 |
586 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 980 |
585 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 982 |
584 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 995 |
583 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 999 |
582 | 고진공 만드는방법. [1] | 1008 |
581 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1008 |
580 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 1008 |
579 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
578 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1016 |
577 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1021 |
576 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1028 |
575 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1030 |
574 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |
573 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1037 |
572 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1045 |
571 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1050 |
570 | Plasma Arching [1] | 1051 |
569 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1056 |
저도 원인에 대한 확신은 없습니다. 다만, 관련되는 현상으로 floating electrode 표면에서 형성되는 bias을 Vdc라 하니, Vdc, 혹은 부유 전극에 selfbias가 형성되는 과정을 공부해 보시면 원인 해결에 실마리를 찾지 않을지요? 부유 조건이 만족하지 않으면 전하 충전에 의한 self bias가 형성되지 않습니다. 여기서 부유 전위라면 플라즈마와 대면하고 있는 시편의 부도체 coating 표면도 포함이 되니 이 점 참고하시어 기본 현상에서 원인을 찾아 보시기를 추천드립니다.