안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 이용하는 반도체 장비업체를 다니는 연구원입니다.

 

언제나 친절한 답변 감사 드립니다.

 

다름이 아니라 책을 통해서 Study를 하던 중 궁금한 것이 생겨서요.

 

Microwave plasma에 대해 공부하는데, Radio 와는 다르게 2.45GHz의 고주파 플라즈마를 형성하면

 

파장이 12.5cm로 훨씬 작아지게 되고 따라서 플라즈마의 크기도 이에 따라 작아진다고 하는데

 

왜 파장 길이 이상의 플라즈마 형성이 안되는 것인지 궁금합니다.

 

저는 지금 13.56MHz CCP방식으로 Chamber에 플라즈마를 형성하는데 이 주파수의 경우 파장의 길이보다 플라즈마가 형성되는 챔버의 크기가 훨씬 작게 되는데, 

 

플라즈마가 형성되는 공간이 파장보다 작은 것은 괜찮은데 더 큰것은 왜 안되는지 그 이유가 궁금합니다.

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
583 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 971
582 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 982
581 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 999
580 고진공 만드는방법. [1] 1001
579 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1001
578 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1007
577 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1009
576 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1017
575 Plasma Arching [1] 1024
574 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1024
573 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1025
572 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1026
571 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1028
570 플라즈마 코팅 [1] 1032
569 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1039
568 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1040
567 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1043
566 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1045
565 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1054
564 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1058

Boards


XE Login