Others PSM을 이용한 Radical측정 방법

2004.06.21 15:56

관리자 조회 수:16908 추천:299

질문 ::

안녕하십니까 !!
많은 정보에 항상 감사드립니다.
다름이 아니오라 플라즈마 특성 측정장비인 PSM(plasma sampling mass analyzer, QMA의 일종)을 이용하여 중성입자를 측정하려 하는데 그게 쉽지 않아서 조언을 구하고자 합니다.
QMA의 경우 mass analyzing을 위해 quadrupole앞에 ion chamber가 위치하고 이를 통해 이온화된 종들이 m/z 에 따라 분석되는 것으로 알고 있슴니다. 물론 아이온의 측정에 있어서는 이온화가 불필요하겠지만 말입니다.
예를 들어 CF4 플라즈마를 분석할때 주로 발생되는 CFx 라디칼을 분석할경우, 플라즈마 리엑터로부터 입사되는 CFx라디칼과 더불어 QMA로 입사된 cf4가 이온 쳄버에서 이온화되고 이 양이 리엑터로 부터 입사된 양과 합쳐진 값을 얻게되는데 플라즈마 리엑터로부터 입사된 라디칼만을 얻을수 있는 방법이 없는지가 궁금합니다.
일반적으로 15eV정도의 낮은 electron energy에너지만을 필라멘트(이온 쳄버의)가해 입사된 CF4개스는 해리되지 않고 리엑터 내에서 입사된 CFx종만을 이온화시켜 측정하는 방법이 사용되어진다고 알고 있는데, 제가 실험해본 결과 counts가 거의 나오지 않았습니다.
제 실험 방법에 문제가 있었나요?
또 한가지 궁금한것은 high density plasma에서 이온화 율이 약 0.1%라고들 하는데 해리율은 얼마나 되는지가 궁금합니다. 다시 말씀드려서 이온과 라디칼중 어떤것이 더 많은지가 궁금합니다.
두서없이 쓴글을 읽어주셔서 감사드리고여..
더운 날씨에 건강 조심하십시오!!

답변 ::

PSM은 벤츠 한대값 정도의 고급 장비죠. 물론 EQP보다는 한단계 아래지만.
AMS는 첨부한 논문의 인용 그래프에서 보여주는 것 처럼 이온화 전자에너지를 문턱부근에서 측정을 해야하므로 신호의 크기가 아주 작은 것이 큰 흠입니다. 잘 보시면 논문의 Y-axis 가 Log scale로 되어있고, plasma on시 문턱이하에서 보이는 신호는 1/100 정도로 작습니다. 반면 송호영씨께서 측정한 그래프는 Linear scale로 나타내어져 있습니다. 측정이 안되는 것 처럼 보이는 것이 당연하죠.

방법은 이온화 전자 전류를 증가시키고 SEM의 증폭도를 올려야 합니다. AMS를 가장 잘쓰는 나고야 대학의 H.Sugai group에서는 하루에 한개씩 필라멘트를 갈아줄 정도로 전류 출력을 최대로 씁니다. 그리고 전자 에너지의 폭도 중요한데, 그들 나름대로 개조해서 쓰더군요. 예전에 제가 올린 글에도 나와있읍니다.(저아래 처음에) 아주 작은 양이니 측정 민감도를 올릴 수 있는 모든 setting을 최대로 조절하셔야 할것입니다.

Bless you !
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5614
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16912
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51351
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64223
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84302
492 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 997
491 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1002
490 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1011
489 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1015
488 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1016
487 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1021
486 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1025
485 자기 거울에 관하여 1030
484 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [1] 1042
483 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1047
482 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1047
481 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1074
480 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1099
479 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1102
478 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1109
477 플라즈마 기초입니다 [1] 1111
476 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1121
475 RF matcher와 particle 관계 [2] 1140
474 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1164
473 MATCHER 발열 문제 [3] 1172

Boards


XE Login