안녕하십니까, 현재 플라즈마에 관하여 연구하고 있는 연구생입니다.

랭뮤어 프로브와 비슷하게 장치를 제작하여 실험을 하는 도중, current의 sign에 혼동이 와서 질문을 드리게 되었습니다.

보통 랭뮤어 프로브에 (+) bias를 가해주면 전자가 프로브에 들어오며, (-) bias를 가해주면 이온이 프로브에 들어오는 것으로 알고있습니다.

이러한 원리는 쉽게 이해가 가능합니다만, 전자가 프로브에 들어오는 경우 왜 I-V curve에서 +값으로 나타내는지 혼동이 됩니다.

만약 멀티미터로 전류값을 측정한다고 하면, 멀티미터의 red line을 프로브에 연결하여야 할 것인데, 위처럼 프로브에 전자가 들어오는 경우는 (-)값으로 나와야 하지 않나요?

정식 랭뮤어 프로브가 아니라 bias 장비와 멀티미터로 측정을 해야 하는 상황인데, 기본적인 세팅에 혼동이 와서 질문 드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79239
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21259
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58062
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69620
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94407
623 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 902
622 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 906
621 라디컬의 재결합 방지 [해리 반응상수] [1] 909
620 RF 파워서플라이 매칭 문제 910
619 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 911
618 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [RF plasma와 circuit model] [1] 922
617 RF MATCHING관련 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 Impedance와 matching 설계] [1] 927
616 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [용사 코팅] [1] 930
615 RF 주파수에 따른 차이점 [이온 및 전자 주파수 선택] [1] 933
614 문의 드립니다. [방전 개시 조건 및 Bohm current density] [1] 934
613 연면거리에 대해 궁금합니다. [아크 제어] [1] 938
612 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 939
611 Plasma Generator 관련해서요. [Matcher 성능 개선] [1] 951
610 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 962
609 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 978
608 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 987
607 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [Breakdown condition 및 Paschen's law] [1] 988
606 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 994
605 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [DC glow discharge] [1] 996
604 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다. [VI Phase] [1] 998

Boards


XE Login