안녕하세요, 의료기기 회사에 재직중인 회사원입니다.

 

최근 사내 내부학습 개념으로 패럴린과 같은 고분자화합물 과 플라즈마 표면처리, 에칭 등의 공부를 하고 있습니다.

스스로나 주변에도 해당 지식이 없는 사람들 뿐이라 인터넷으로 겨우겨우 찾아보며 알아가는 실정입니다.

 

질문드리고자 하는 내용은 에칭과 표면처리에 대한 차이점 입니다.

 

먼저 제가 이해하고 있기로는

표면처리는 보드기판이나 어떠한 물질에 고분자화합물을 코팅하게 되면 증착이 잘 되지 않으므로

플라즈마를 이용해 표면처리(활성화) 를 한 뒤 코팅을 하여 증착력을 높히는 것 과

에칭은 증착된 코팅물질을 없애는 방법 이라고 이해 했습니다.

 

헌데 표면처리 라는 것도 보드의 표면에 있는 이물질이나 원자? 등을 제거하는 것이라고도 생각이 되는데

그렇다면 표면처리를 오래 한다거나 강하게 하면 그것이 에칭이 되는것인가요?

표면처리에 사용되는 제품은 에칭으로는 사용을 못하는 것인가요?

 

질문의 수준이 매우 낮을지도 모르겠네요... 이해 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
569 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1056
568 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
567 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
566 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1060
565 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1065
564 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1071
563 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1081
562 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1087
561 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1104
560 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1112
559 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1113
558 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1117
557 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1117
556 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1120
555 wafer bias [1] 1129
554 전자 온도 구하기 [1] file 1130
553 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
552 자기 거울에 관하여 1138
551 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1141
550 Group Delay 문의드립니다. [1] 1144

Boards


XE Login