ICP ICP TORCH의 냉각방법

2004.06.21 15:30

관리자 조회 수:15919 추천:261

질문 ::

ICP TORCH에 관하여 문의를 드립니다.
ICP TORCH를 이용 유리와 같은 물질을 가열하는 장치를 연구하고 있는데 TORCH의 구조는 COIL과 QUARTZ관으로 구성되며 QUARTZ관은 내경50mm정도입니다. GAS는 Ar을 사용하고 있는데 문제는 발생된PLASMA가  COIL내에서 발생되므로 QUARTZ관까지 녹는 현상이 발생됩니다. 코일은 3 -4 TURN으로 하였는데 코일밖에서 PLASMA를 발생시킬 수 는 없는지요? 아니면 QUARTZ관이 가열되지 않는 방법이 있는지 알고 싶습니다.

답변 ::

말씀하신 장치에 대해서는 직접 보지 않아 개념적인 답변을 드릴 수 밖에 없을 것 같습니다.
1 . 일단 안테나 coil을 냉각수로 냉각하도록 하십시오.
2.  입력 개스의 흐름을 유리관 벽에서 와류가 생겨 유리관으로 전달되는 열을 가급적 차단하도록
    개스흐름을 조절하십시오.
일반적으로 이상의 방법을 사용하고 있습니다.
도움이 되었기를 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
568 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
567 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
566 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1059
565 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1065
564 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1071
563 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1079
562 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1087
561 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1103
560 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1112
559 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 1112
558 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 1116
557 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1117
556 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1120
555 wafer bias [1] 1129
554 전자 온도 구하기 [1] file 1129
553 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1132
552 자기 거울에 관하여 1138
551 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1141
550 Group Delay 문의드립니다. [1] 1144
549 공정플라즈마 [1] 1145

Boards


XE Login