안녕하십니까, 식각공정 장비 담당하는 회사원입니다. 

장비에서 올라오는 신호로 Plasma에 대해 해석을 하는 경우가 있는지 알고싶습니다.

양산라인에서 쓸만한 Monitoring Method에 대해서도 알고싶습니다.


제 주 업무는 장비에서 올라오는 신호들을 분석하는 것인데요,

(저희 부서에서는 일본계 회사 제품을 사용하고있습니다.)


업무를 하다보면 제품 온도 변화 혹은 내부 상태의 변화에 따라 불량이 발생하는 경우가 자주 있습니다.

아쉬운 점은 이걸 장비 신호로 플라즈마의 공정상 영향을 미치는 정보들이 해석이 안되는 경우가 많습니다.

(특정 구간에서 불량이 검출되었으나 Trend 상으로 전혀 문제가 없어 보이는)


센서 심화를 더 시켜야 하는것인지 고민될때가 많습니다.(H/W적인 변경점을 주는것은 상당히 어렵습니다만)

연구실에서 사용하는 방법론들에 대해 알려주시면 많은 도움이 될 것 같습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75772
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68035
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90329
518 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1217
517 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1225
516 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1235
515 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1236
514 플라즈마 기초입니다 [1] 1245
513 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1249
512 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1252
511 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1255
510 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1261
509 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1264
508 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1285
507 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1287
506 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1288
» [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1303
504 알고싶습니다 [1] 1315
503 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1317
502 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1317
501 plasma 형성 관계 [1] 1323
500 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1337
499 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1337

Boards


XE Login