Plasma in general Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성

2021.05.22 22:23

abccc 조회 수:1430

교수님 안녕하세요.

 


1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)

 

글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,

 

두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.


2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?

 

 

항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] 75772
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19457
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56674
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68035
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90329
518 CVD 막질의 성질에 대해 질문드립니다. [1] 1217
517 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1225
516 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1235
515 CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] file 1236
514 플라즈마 기초입니다 [1] 1245
513 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1249
512 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1252
511 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1255
510 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1261
509 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1264
508 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1285
507 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1287
506 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1288
505 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1303
504 알고싶습니다 [1] 1315
503 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1317
502 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1317
501 plasma 형성 관계 [1] 1323
500 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1337
499 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 1337
쓰기
태그

Boards

XE Login