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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[160]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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446 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1480 |
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445 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다.
[2] | 1487 |
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444 |
ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage
[1] | 1489 |
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443 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 1491 |
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442 |
[Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련]
[3] | 1492 |
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441 |
Remote Plasma 가 가능한 이온
[1] | 1495 |
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440 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1504 |
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439 |
N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다.
[1] | 1516 |
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438 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 1518 |
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437 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1523 |
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436 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 1531 |
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435 |
RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다.
[1] | 1550 |
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434 |
터보펌프 에러관련
[1] | 1559 |
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433 |
식각 시 나타나는 micro-trench 문제
[1] | 1563 |
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432 |
RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다.
[1] | 1591 |
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431 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이
[1] | 1593 |
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430 |
ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다.
[2] | 1605 |
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429 |
플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
[1] | 1632 |
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428 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 1654 |
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427 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1655 |
