안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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423 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1672
422 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1677
421 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1696
420 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 1697
419 CVD 공정에서의 self bias [1] 1707
418 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1709
417 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1742
416 etching에 관한 질문입니다. [1] 1755
» Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1776
414 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1782
413 chamber impedance [1] 1790
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410 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 1826
409 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1840
408 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1848
407 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1857
406 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 1866

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