CCP CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계

2021.08.05 17:12

피했습니다 조회 수:1853

안녕하십니까 교수님 항상 성심성의것 답변해 주신것 감사합니다.

 

저는 CCP plasma를 다루는 반도체 장비 회사를 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 여러가지 조건으로 Split test를 하는 와중에 샤워헤드와 척 사이의 갭을 늘렸더니 

 

플라즈마가 켜졌을 때 Matcher의 Vrms가 초반 몇 초 동안 급격히 상승하는 현상이 발생했습니다.

 

운이 없었다면 아킹이 발생하고 웨이퍼가 깨졌을 수도 있었던 상황이라 생각합니다.

 

 

이런 상황에서 pressure를 낮췄을 때는 Gap을 늘려도 상대적으로 안정해지는 경향이 파악 되었습니다.

 

왜 Gap이 커지면 불안정해지고, 여기서 Pressure를 낮추면 Gap이 커져도 상대적으로 안정해 지는 걸까요??

 

감사합니다~!

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 74914
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18766
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56246
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66741
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88187
439 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1622
438 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 1636
437 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1641
436 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1670
435 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 1676
434 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1699
433 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1705
432 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1711
431 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1719
430 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1732
429 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1735
428 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1737
427 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1738
426 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1746
425 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1760
424 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1769
423 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1773
422 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1774
421 RF matcher와 particle 관계 [2] 1785
420 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1834
쓰기
태그

Boards

XE Login