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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20152 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57158 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68677 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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487 |
charge effect에 대해
[2] | 1463 |
486 |
연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생
[1] | 1477 |
485 |
PECVD 증착에서 etching 관계
[1] | 1489 |
484 |
glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다.
[2] | 1501 |
483 |
plasma 형성 관계
[1] | 1502 |
482 |
Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다.
[1] | 1502 |
481 |
IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다.
[2] | 1507 |
480 |
데포 중 RF VDC DROP 현상
[1] | 1533 |
479 |
O2 플라즈마 클리닝 관련 질문
[1] | 1559 |
478 |
ICP reflecot power 관련 질문드립니다.
[1] | 1594 |
477 |
전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다.
[1] | 1596 |
476 |
standing wave effect에 대한 질문이 있습니다.
[1] | 1602 |
475 |
CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다.
[3] | 1604 |
474 |
EEDF, IEDF, Cross section관련 질문
[1] | 1640 |
473 |
Pecvd 장비 공정 질문
[1] | 1657 |
472 |
Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
[1] | 1660 |
471 |
안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다.
[1] | 1666 |
470 |
RF 전압과 압력의 영향?
[1] | 1670 |
469 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1682 |
468 |
CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다.
[3] | 1686 |