안녕하세요. 전에도 몇번 질문드렸었습니다만,, 반도체 관련회사에서 근무하고 있습니다.

RF (ICP)장비를 다루고 있는데 impedence 위상관련해서 문의 좀 드리려고 합니다.

 

impedence 매칭은 저항과 위상으로 조정하데..

공정 parameter (Ar pressure , AC power 등)의 변화로 위상이 변화할수 있을까요?

변화된다면 어떤 이유로 변화되는지 조금 자세하게 설명을 듣고 싶습니다..

 

그리고 정말 죄송한데 smith chart program 을 사용하고 싶은데..도움 받을 site가 있을까요?

검색해서 찾아봐도 알수 없는 site로 이동이 되서...찾기가 어렵습니다만..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] 79126
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21223
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58034
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69588
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94338
502 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1542
501 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1545
500 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1547
» Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1548
498 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1549
497 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1567
496 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1576
495 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 1593
494 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1598
493 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1598
492 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1617
491 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1624
490 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1625
489 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1635
488 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1647
487 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1655
486 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [접촉 저항] [2] 1682
485 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [고전압 방전 및 DBD] [2] 1688
484 plasma 형성 관계 [Paschen's law, 플라즈마 주파수] [1] 1695
483 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1697

Boards


XE Login