안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77643
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20674
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57614
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69110
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93325
476 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1704
475 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1704
474 Pecvd 장비 공정 질문 [1] 1729
473 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1731
472 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1745
471 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1746
470 RF 전압과 압력의 영향? [1] 1754
469 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1759
468 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 1768
467 터보펌프 에러관련 [1] 1804
466 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1813
465 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1820
464 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1853
463 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1881
462 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1885
461 가입인사드립니다. [1] 1887
460 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1897
459 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1902
458 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1920
457 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1929

Boards


XE Login