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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69249
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54 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 687
53 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 711
52 Polymer Temp Etch [1] 756
51 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 762
50 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 875
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45 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1180
44 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1186
43 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1202
42 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1211
41 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1226
40 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1282
39 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1447
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37 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1515
36 터보펌프 에러관련 [1] 1815
35 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1895

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