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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61756
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27 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1330
26 etching에 관한 질문입니다. [1] 1351
25 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1419
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13 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3659
12 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 4728
11 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 4825
10 에칭후 particle에서 발생하는 현상 8991
9 ICP와 CCP의 차이 [3] 10526
8 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 11074

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