안녕하십니까

저는 DRY Etch 하부 정전척(ESC) 세정/재생 업체에 다니고 있는 최균호 라고 합니다.

고객사에 납품하여 Run중인 ESC에서 He Flow라는 알람이 자주 발생하여 문의 드립니다.

상부 Glass면과 ESC 사이에 Cooling을 위한 He Gas를 공급하는데

공급 과정 중 He Pressure의 이상이 있을 때 발생하는 것이 He Alaram 입니다.

He Flow 발생품 입고 검사 시 Glass를 안착시키는 Dam부 및 Cooling 면의 외관적인 문제점은 존재 하지 않고

전기적인 특성조차 큰 특이점을 찾아 볼 수 없습니다.

고객사 측에서도 뚜렷한 원인은 알 수 없다고 하네요.


Cooling Gas Flow (Gas Leak) 발생 원인이 대체로 무엇인지, 그에 따른 해결 방안을 가지고 계신다면

알려 주실 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
47 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 950
46 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 964
45 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1026
44 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1045
43 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1107
42 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1133
41 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1146
40 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1173
39 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
38 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1267
37 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1364
36 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1399
35 터보펌프 에러관련 [1] 1737
34 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1770
33 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1878
32 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1893
31 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1946
30 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2038
29 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2227
28 etching에 관한 질문입니다. [1] 2243

Boards


XE Login