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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
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플라즈마 에칭과 표면처리의 차이점 질문드립니다. [Cleaning, sputter etching, RIE]
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양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [이차 전자의 방출 특성]
[1] | 2335 |
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자]
[2] | 2336 |
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플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문있습니다. [이온과 전자의 속도 차이와 Gate valve의 위치]
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식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [소자 식각 데미지]
[1] | 2363 |
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RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문
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플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다. [Experiment와 KFE]
[1] | 2404 |
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Remote Plasma가 가능한 이온 [Remote plasma와 diffusion]
[1] | 2433 |
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RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [Ionization과 chucking]
[1] | 2437 |
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플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는?
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압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [MFC와 residence time]
[1] | 2444 |
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플라즈마 관련 기초지식 [DC glow discharge]
[1] | 2447 |
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Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산]
[1] | 2466 |
435 |
CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [Plasma information variable model]
[1] | 2467 |
434 |
PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [PECVD와 PACVD]
[1] | 2467 |
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부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [Self bias의 이해]
[1] | 2479 |
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RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술]
[2] | 2513 |
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Ashing 공정에 필요한 O2plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전자 충돌 이온화 반응 해리 반응 흡착 반응]
[1] | 2514 |