Matcher Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.

2019.07.22 10:20

Seong 조회 수:6269

다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
389 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2727
388 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2742
387 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2765
386 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2779
385 임피던스 매칭회로 [1] file 2804
384 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2819
383 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2871
382 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2873
381 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2891
380 RF matcher와 particle 관계 [2] 2917
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2964
378 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2970
377 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 3052
376 CVD 공정에서의 self bias [1] 3098
375 M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 3162
374 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3165
373 matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [3] 3179
372 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3192
371 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3203
370 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3273
쓰기
태그

Boards

XE Login