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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[265]
| 76543 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20078 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57116 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68615 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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383 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
| 2851 |
382 |
VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 2854 |
381 |
RF matcher와 particle 관계
[2] | 2859 |
380 |
HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의
[1] | 2880 |
379 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2924 |
378 |
Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다.
[1] | 2933 |
377 |
CVD 공정에서의 self bias
[1] | 3034 |
376 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 3043 |
375 |
Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다.
[2] | 3115 |
374 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 3136 |
373 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3146 |
372 |
아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서
| 3163 |
371 |
electron energy distribution에 대해서 질문드립니다.
[2] | 3167 |
370 |
PECVD Precursor 별 Arcing 원인
[1] | 3189 |
369 |
RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다.
[2] | 3227 |
368 |
Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.
[2] | 3308 |
367 |
PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다.
[1] | 3315 |
366 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다.
[2] | 3318 |
365 |
Bias 관련 질문 드립니다.
[1] | 3362 |
364 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 3379 |
플라즈마는 이온화된 가스상태이다'라고 정의하는 분도 계십니다.