안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [336] 108409
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 26573
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 63710
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 75426
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 109057
415 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2916
414 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2944
413 PR wafer seasoning [Particle balance, seasoning] [1] 2970
412 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [대기압 플라즈마와 라디컬 생성] [1] 2973
411 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [Ionization collision 및 Effective ionization energy] [1] 2975
410 DRY Etcher Alarm : He Flow 관점 문의 드립니다. [O ring 결합부 근처 leak detect] [1] 2982
409 Load position관련 질문 드립니다. [Impedance matching] [1] 2985
408 매칭시 Shunt와 Series 값 [RF 전원 전력 전달 및 Load/Tune 계산] [1] 3003
407 질문있습니다. [전자 에너지 분포함수 및 Maxwell 분포] [1] 3017
406 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 3020
405 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델] [1] 3024
404 플라즈마 압력에 대하여 [Glow discharge와 light] [1] 3033
403 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [ESC 영역 온도 조절] [1] 3128
402 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 3136
401 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 3154
400 RIE에 관한 질문이 있습니다. [Sheath 이온 거동 및 bias power] [1] 3163
399 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 3193
398 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Depostion Rate 감소 현상 문의 [전자의 에너지와 중성입자와의 충돌] [1] 3268
397 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 3268
396 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3272

Boards


XE Login