질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:91695 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
363 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3385
362 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 3390
361 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3435
360 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3490
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3498
358 ESC Cooling gas 관련 [1] 3514
357 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3552
356 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3558
355 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3615
354 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3623
353 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3637
352 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3658
351 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3672
350 Descum 관련 문의 사항. [1] 3698
349 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3761
348 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3857
347 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3858
346 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3914
345 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3949
344 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3968

Boards


XE Login