Plasma in general 플라즈마 PIC 질문드립니다.

2020.08.04 23:19

palc 조회 수:10377

ICP구조에서 PIC 시뮬레이션을 하려고 합니다. 

 Ar+의 particle의 움직임을 관찰할 때 해석 time step의 size가 1/(plasma frequency)보다 작아야 한다고 알고있습니다.

이 때 Ar+의 입자를 분사하는 시간을 질문드립니다.

그리고 PIC관련 서적 추천 부탁드립니다.

감사합니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76713
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68694
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92269
348 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3898
347 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3913
346 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3953
345 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3964
344 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3977
343 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4008
342 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4143
341 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4175
340 플라즈마 색 관찰 [1] 4256
339 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4266
338 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4318
337 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4482
336 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4802
335 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4913
334 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5063
333 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5147
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5265
331 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5452
330 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5519
329 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5676
쓰기
태그

Boards

XE Login