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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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356 |
plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [Child-Langmuir sheath model]
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SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [세정 시간 및 식각 효율]
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354 |
CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss]
[3] | 4693 |
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353 |
ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘]
[2] | 4704 |
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플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [Self bias와 RIE]
[1] | 4704 |
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351 |
고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [플라즈마 물리/화학적 특성, 중성입자 거동 및 자기장 성질]
[1] | 4779 |
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350 |
진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [Chemisorption과 pruege gas]
[1] | 4804 |
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ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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348 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue]
[1] | 4952 |
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Depostion 진행 중 matcher(shunt, series) 관계 질문 [Matcher와 VI sensor]
[3] | 4968 |
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346 |
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수]
[1] | 5041 |
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345 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포]
[2] | 5052 |
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344 |
플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호]
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343 |
플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [재료 표면 반응]
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342 |
Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마]
[1] | 5305 |
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341 |
RPSC 관련 질문입니다. [플라즈마 발생과 쉬스 형성, 벽면 및 시료 demage]
[2] | 5471 |
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340 |
Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath]
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339 |
RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length]
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338 |
매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달]
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337 |
RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant]
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