Deposition 박막 형성
2004.06.21 15:10
박막 형성
ICP장치에 관해서는 참고서적을 이용하시고 sputter(본란에서 설명을 하였습니다. 참고하기 바랍니다.)를 이용하여 상온 target에
박막을 형성시키는 것은 가능합니다. 입히고자 하는 박막이나 시편의 성질에 따라서 시편의 온도를 조절해야 함은 당연할 것 입니다.
적절한 온도에서 박막이 잘 성장하게 되며 이에 대해서도 이미 설명드린 바가 있습니다. 한가지 더 고려해야 할 것은 금속 박막
성장을 위한 방법으로 MOCVD방법이 있으니 이를 공부해 보는 것도 좋은 방법입니다. MOCVD는 sputter로 가능하지 않은 금속 물질등
의 박막 성장에 사용하는 방법입니다.
ICP에 관한 자료는 일단 다음 교재를 참고하기 바랍니다.
1. M.A. Lieberman & A.J.Lichtenberg "Principles of plasma discharges and material processing (1994,Jhon Wiley & Sons.Inc)
2. J.R.Roth, "Industrial Plasma Engineering : Vol.1 Principles" (1995, Institute of Physics Publishing)
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75767 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19453 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56672 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68028 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90318 |
| 278 | 수중 방전 관련 질문입니다. [1] | 9609 |
| 277 | ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] | 9661 |
| 276 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9707 |
| 275 | 저온 플라즈마 장비에 관련하여 자문을 구합니다. | 9824 |
| 274 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 10118 |
| 273 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10199 |
| 272 | Remote Plasma에서 Baffle 재질에 따른 Plasma 특성 차이 [1] | 10250 |
| 271 | 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] | 10337 |
| 270 | RGA에 대해서 | 10434 |
| 269 | N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] | 10851 |
| 268 | DC bias (Self bias) [3] | 11017 |
| 267 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11334 |
| 266 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12212 |
| 265 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12324 |
| 264 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12613 |
| 263 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12783 |
| 262 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 12978 |
| 261 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13161 |
| 260 | 플라즈마의 상태 | 14031 |
| 259 | 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] | 14111 |