플라즈마 공부를 막 시작한 사회 초년생입니다
high votage를 가하면 충돌 단면적이 작아지고 mean free path가 커지는 이유가
궁금합니다.
이온화가 일어날 최대 확률(충돌 단면적)이 100ev에서 발생하는데
그 이상에선 감소하는데 그 이유를 알고싶습니다
댓글 1
-
관리자
2004.11.20 11:16
이 모두 속도와 관련이 있다고 볼 수 있습니다. high voltage나 에너지가 놓아질수록 속도가 높아집니다. 속도가 높아지면 hard sphere가 아닌 이상 polarization effect등으로 충돌 단면적이 작아지고(속도가 느리면 전단지 뿌리는 사람의 전단지를 받지만 속도가 빠르면 옆에 전단지 주는 사람을 그냥 지나치는 경우가 같다고 볼수 있겠네요) 충돌할 확률이 작아지니 더 멀리 가게 되서 mean free path가 커지게 됩니다. 이온화가 일어날 최대 확률도 높은 에너지를 가진 입자들이 속도가 높기 때문에 같은 이치로 감소하게 됩니다. 좀더 아시고 싶으시면 Michael A. Lieberman "Principles of plasma discharges and materials processing"의 앞쪽 부분을 참조하세요
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] | 75430 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19166 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56480 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67562 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89369 |
268 | DC bias (Self bias) [3] | 10905 |
267 | 플라즈마 살균 방식 [2] | 11273 |
266 | ICP와 CCP의 차이 [3] | 12040 |
265 | 플라즈마에 대해서 꼭알고 싶은거 있는데요.. | 12299 |
264 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12523 |
263 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12760 |
262 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 12915 |
261 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13142 |
260 | 플라즈마의 상태 | 14011 |
259 | ESC Dechuck과 관련하여 궁금한점이 있어 문의를 드립니다. [1] | 14064 |
258 | remote plasma 데미지 질문 [1] | 14082 |
257 | 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] | 14104 |
256 | 냉각수에 의한 Power Leak | 14418 |
255 | 우주에서의 플라즈마의 성분비 | 14567 |
254 | laser induced plasma의 측정에 관하여 | 14700 |
253 | 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마 | 14703 |
252 | 우주 플라즈마 | 14774 |
251 | 산업용 플라즈마 내에서 particle의 형성 | 14990 |
250 | 산업용 플라즈마의 특성 | 15089 |
249 | 박막 형성 | 15247 |