Plasma Source RF 변화에 영향이 있는건가요?
2018.09.06 07:36
반도체 공정과 관련하여 DIFF 공정 진행 간, TEMP와 RF 간에 상관 관계가 궁금하여 문의 드립니다.
NH3의 분해와 관련하여 상온 기준 RF POWER를 인가한다고 했을때 분해 가능한 수준이 어느 정도인지 궁금합니다.(W 기준)
그리고 추가로 문의 드리고 싶은 사항은 TEMP와 RF 간에 상관 관계입니다. TEMP가 변화하는 정도에 따른 RF의 변화 정도가 어떻게 되는지 궁금해서 문의 드립니다.
정답이 힘들다면 참고 및 이해할 수 있는 답변을 좀 부탁 드립니다.
댓글 0
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [235] | 75767 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19453 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56672 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68028 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 90318 |
| 218 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 17015 |
| 217 |
PSM을 이용한 Radical측정 방법
 | 17021 |
| 216 | 플라즈마를 이용한 발광시스템에 관한 연구 | 17037 |
| 215 | Light flower bulb | 17066 |
| 214 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17158 |
| 213 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17254 |
| 212 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 17342 |
| » | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17484 |
| 210 | 유전체 플라즈마 | 17489 |
| 209 | Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. | 17499 |
| 208 | 스퍼터링 후 시편표면에 전류가 흘렀던 흔적 | 17502 |
| 207 | RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [1] | 17528 |
| 206 | 플라즈마와 자기장의 상호작용 | 17588 |
| 205 | 불꽃이 쫒아오는 이유 | 17606 |
| 204 | 충돌 | 17638 |
| 203 | 플라즈마에서 전자가 에너지를 어느 부분에서.. | 17641 |
| 202 | capacitively/inductively coupled plasma | 17721 |
| 201 | 플라즈마 온도중 Tr의 의미 | 17724 |
| 200 | 교육 기관 문의 | 17760 |
| 199 | QMA에서 electron beam의 generation 과정 [1] | 17803 |