CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련
2020.01.02 18:46
안녕하십니까?
이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.
그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,
그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.
에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.
(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)
확인 및 답변 부탁드립니다.
새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76726 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20182 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68698 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92276 |
229 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16485 |
228 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
227 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16654 |
226 | nodule의 형성원인 | 16757 |
225 | sputter | 16845 |
224 | Virtual Matchng | 16853 |
223 | ICP 식각에 대하여... | 16916 |
222 | 플라즈마 처리 | 16932 |
221 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16946 |
220 | 형광등으로 부터 플라즈마의 이해 | 17001 |
219 | RF에 대하여,, | 17042 |
218 | PSM을 이용한 Radical측정 방법 | 17073 |
217 | Light flower bulb | 17079 |
216 | 플라즈마를 이용한 발광시스템에 관한 연구 | 17087 |
215 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. | 17191 |
214 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17333 |
213 | 고온플라즈마와 저온플라즈마 | 17420 |
212 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 17445 |
211 | RF 변화에 영향이 있는건가요? | 17510 |
210 | 유전체 플라즈마 | 17556 |
상기관련, 에쳐장비에서 HF/LF의 기본적으로 접지를 잡는방법이 궁금합니다.
또한 그라운드관련 그라운드 기능을 하는 하드웨어파트가 없어도, 큰 무리는 없는지 궁금합니다.
확인 부탁드립니다.
감사합니다.