개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57115 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68614
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
115 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 948
114 anode sheath 질문드립니다. [1] 961
113 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 967
112 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 973
111 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1026
110 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1040
109 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1044
108 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1114
107 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1119
106 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 1122
105 공정플라즈마 [1] 1136
104 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1143
103 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1176
102 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193
101 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1205
100 플라즈마 챔버 [2] 1205
99 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1267
98 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1290
97 DBDs 액츄에이터에 관한 질문입니다. [3] 1322
96 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1332

Boards


XE Login