이제 막 플라즈마에 대해 공부하고 있는 학생입니다.

산소와 아르곤 플라즈마를 이용해 물질을 처리하려고 하는데요

실험전에 아르곤플라즈마와 산소플라즈마를 조금씩 섞어줄 떄 온도 변화를 먼저 측정해 봤었는데요

산소를 섞어줄수록 중심으로부터 안테나부근의 온도들은 아르곤만 있었을 때보다 떨어졌으나

거의 챔버의 끝에서는 오히려 산소플라즈마를 섞은 것이 온도가 더 높게 측정되었습니다..

이유가 무엇일까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21328
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58124
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69689
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94584
784 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 232
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 239
782 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 240
781 ICP dry etch 시 공정 문의 사항. [1] 246
780 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking] [1] 247
779 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 250
778 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 252
777 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 255
776 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 264
775 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 265
774 Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant] [1] 268
773 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 269
772 챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP] [1] 272
771 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포] [1] 273
770 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산] [1] 274
769 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마] [1] file 275
768 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator] [2] file 285
767 ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation] [1] 291
766 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 292
765 대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해] [1] 314

Boards


XE Login