ICP skin depth에 대한 이해

2024.04.02 16:59

김준서 조회 수:255

안녕하십니까, 교수님. 플라즈마에 관심이 많은 전자과 학부생입니다.

ICP에서의 skin depth에 대해 알아보고 있는데, 궁금한 점이 있어 질문 드리고 싶습니다.

 

skin depth는 전자기파가 챔버 내로 침투할 수 있는 길이로, 플라즈마 밀도가 높아질수록 해당 길이는 짧아진다고 알고 있습니다.

고밀도 플라즈마에서는 quartz window 근방에 형성된다고 알고 있는데, 그렇다면 icp는 주로 해당 부근에서 전자가 가속된다고 생각해도 될까요?(CCP가 Cathode fall 부근에서 주로 가속되는 것과 비슷하게).

 

비슷한 방면으로, icp에서 E-mode->H mode로 전환되며 플라즈마 밀도가 커지면서 skin depth 또한 줄어들 것이니, 플라즈마 형성 초기에는 전자가 흡수하는 에너지가 커지다가, 이후 점차 작아질 것이라고 생각하는데, 이러한 태생적인 특징이 icp 플라즈마 밀도 증가의 한계에 영향을 끼친다고 볼 수 있을까요?

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [297] 77472
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20573
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57504
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69019
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93133
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 201
773 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [1] file 207
772 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [2] 208
771 ICP에서 전자의 가속 [1] 212
770 AP plasma 공정 관련 문의 [1] 224
769 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 225
768 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 232
767 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 234
766 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 242
765 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 255
» skin depth에 대한 이해 [1] 255
763 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 258
762 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 260
761 Cu migration 방지를 위한 스터디 [1] 269
760 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 274
759 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 280
758 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [1] 305
757 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 306
756 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 311
755 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 [1] 312

Boards


XE Login