Deposition PEALD관련 질문
2019.06.21 13:12
안녕하십니까?
현재 에쳐장비 현업에 종사하고 있는데...
PEALD관련논문을 서치중에 있습니다.
PEALD관련 혹시 추천해주실 논문이나 자료가 있다면, 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
수고하십시오.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] | 74885 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18737 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56224 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66690 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88025 |
| 98 | 스퍼터링시 시편두께와 박막두께 [1] | 21325 |
| 97 | 상압 플라즈마 관련 문의입니다. [1] | 21399 |
| 96 |
47th American Vacuum Society International Symposium 2000
 | 21401 |
| 95 | 대기압플라즈마를 이용한 세정장치 | 21435 |
| 94 | glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압 | 21520 |
| 93 | manetically enhanced plasmas | 21598 |
| 92 | 플라즈마내의 전자 속도 [1] | 21679 |
| 91 | 펄스바이어스 스퍼터링 답변 | 21802 |
| 90 | 플라즈마의 발생과 ICP | 21833 |
| 89 | 플라즈마 온도 질문 + 충돌 단면적 | 21875 |
| 88 | 플라즈마 코팅에 관하여 | 22005 |
| 87 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22030 |
| 86 | Peak RF Voltage의 의미 | 22342 |
| 85 | CCP/ICP , E/H mode | 22382 |
| 84 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22414 |
| 83 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22426 |
| 82 | pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] | 22467 |
| 81 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22480 |
| 80 | [질문] Plasma density 측정 방법 [1] | 22536 |
| 79 | floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] | 22582 |
에처 쪽의 PEALD 관심은 passivation 막 증착 과정의 세밀한 제어를 목적으로 할 것 같습니다. 공정 난도가 클 때 쓰는 기술로서 개발되는 것으로 알고 있습니다. 이 부분은 실공정 기술에 경험이 있는 팀이 잘 알것 같군요. 원리에 대해서는 많은 교재가 있는 것으로 알고 있습니다. 아울러 장비 쪽으로 문제를 보려면 아래 '질소 플라즈마..' 댓글로 부터 펄스 플라즈마 역할과 접목해서 문제를 보시기 바랍니다.