질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:91695 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
83 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22606
82 [질문] Plasma density 측정 방법 [1] 22680
81 Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] 22747
80 floating substrate 에서 sheath 형성 과정 의문점 [2] 22839
79 CCP/ICP , E/H mode 22922
78 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22930
77 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) 23038
76 No. of antenna coil turns for ICP 23079
75 고온플라즈마와 저온플라즈마 23101
74 DC glow discharge 23225
73 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23254
72 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23317
71 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23371
70 플라즈마 물리학책을 읽고 싶습니다. 23424
69 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23718
68 Arcing 23740
67 플라즈마 쉬스 23922
66 plasma and sheath, 플라즈마 크기 23959
65 self Bias voltage 23993
64 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24120

Boards


XE Login