플라즈마를 구분함에 있어서 저온 플라즈마와 고온 플라즈마를  구분하기 위한 절대 온도의 개념이 설정되어 있는 것은 아닙니다. 일반적으로 산업용 플라즈마의 경우 저온 플라즈마가 형성되고 핵융합과 같은 플라즈마의 경우 전자의 온도가 수 keV 가 됨으로 고온 플라즈마라 합니다. 산업용 플라즈마는 대부분 전자 온도가 10 eV 미만이며 이온의 온도는 이보다 매우 낮아 일반적으로 방안 온도와 유사하다고 생각하기도 합니다. 실측된 이온 전자온도 값도 전자 온도의 1/10 미만의 크기를 보여줍니다.
이에 반해서 핵융합로 같이 플라즈마 구속이 좋은 경우 전자의 온도와 이온의 온도가 모두 수 keV가 되니 고온이라 할수 있으며 핵융합로 자체가 고온 고밀도 플라즈마에 대한 연구가 목적임으로 플라즈마의 발생과 구속 및 가열을 통하여 플라즈마의 온도를 향상 시킴니다. 산업용 플라즈마에서는 전자의 온도 상승이 대부분의 원치 않는 처리 결과를 야기함으로 낮은 전자온도의 플라즈마를 요구하기도 합니다. 또한 효율적으로 플라즈마가 구속되지 않음으로 전자 및 이온의 온도가 낮습니다.