Matcher RF 파워서플라이 매칭 문제

2022.07.21 23:00

김현기 조회 수:815

안녕하세요? 현재 연구실에서 반응성 스퍼터링으로 TiO2 박막을 실험하고 있습니다.

연구실에서 사용하는 RF스퍼터 장비에는 오토매처가 있어 파워 인가 시 자동으로 임피던스 매칭을 수행합니다.

매처는 일반적인 장비로써 Load/Tune capacitor가 내장되어있습니다.

 

현재 RF 파워의 매칭 시간이 너무 긴 문제가 있습니다.

매칭이야 조건을 찾는 과정이니 시간이 걸릴 수 있겠지만, 매칭 시간만 1시간이 넘게 걸리고, 무엇보다 공정 조건이 같은데도 매칭이 이루어지는데 점점 오래 걸리고 있습니다.

 

반응 가스는 고순도 O2를 사용 중에 있으며, 순도는 용접용이어서 낮지 않습니다.

만일 매칭에 방해가 되는 요인이 있다면 어떤 요인이 있는 지 알고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76728
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20190
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
729 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
728 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 390
727 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 391
726 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 393
725 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2 394
724 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 399
723 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 403
722 CCP 설비 Capacitance 및 Impedance 변화에 따른 Vpp 변동성 문의 [2] 405
721 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 421
720 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 423
719 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 426
718 크룩수의 음극선도 플라즈마의 현상인가요? [1] 432
717 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 434
716 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 436
715 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 437
714 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
713 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 446
712 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 446
711 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 450
710 Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의 [1] 452

Boards


XE Login