Others RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유

2022.07.08 16:18

빡깽 조회 수:1216

안녕하세요. 최근 RF Power Reflect 감소를 위해 Plasma에 대해 공부하고 있는, 반도체 회사 직장인입니다.

 

다름이 아니라, RF Power의 Hunting성 Reflect를 감소하기 위해 Gas Flow를 Ramping 형식으로 평가한 자료를 보내되었습니다.

Gas를 이와 같이 점진적으로 증가시키며 Flow할 때와, 한번에 Set Flow를 했을 때

Plasma 형성의 차이와, 왜 이 같은 방식이 RF Power의 Hunting을 감소시키기 위한 방안인지에 대한 상관관계에 대해 궁금증이 생겨 글을 남기게 되었습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
212 Collisional mean free path 문의... [1] 775
211 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 776
210 플라즈마 충격파 질문 [1] 785
209 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] 789
208 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 818
207 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 831
206 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 842
205 RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] 847
204 문의 드립니다. [1] 858
203 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 925
202 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 934
201 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 940
200 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 949
199 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 952
198 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 959
197 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 982
196 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 999
195 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1025
194 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1028
193 플라즈마 코팅 [1] 1032

Boards


XE Login