안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 RF 관련 업무를 하는 회사원입니다.

다름이 아니라 RF calibration에 대해 질문 드리고 싶은데요,

RF calibration의 원리와 mechanism이 어떻게 되는건가요?

Open, short, load 소자에 대한 측정값과 기본 응답 값 사이의 차이를 계산해서 보상한다, cable길이에 의한 위상차를 보정하고 주변 잡음에 의한 영향을 상쇄하는 과정이다.

 

정도만 알고 있고, 자세한 메커니즘은 찾아보기 힘들어 질문 드립니다. 그러다보니 캘리브레이션을 할 때 기계적으로 버튼을 누른다는 생각을 지울수가 없네요...

 

calibration 되는 메커니즘에 대한 설명 부탁드립니다!

더불어 고주파(수M~수백MHz) 수준의 주파수를 cal할때 주의점이 있다면, 주의점도 알려주시길 부탁드립니다

 

감사합니다. 새해복많이 받으십시오

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75745
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19430
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56655
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67981
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90185
57 ESC Cooling gas 관련 [1] 3375
56 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3416
55 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3502
54 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4186
53 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4882
52 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5294
51 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5667
» RF calibration에 대해 질문드립니다. 5680
49 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6128
48 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6381
47 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 6869
46 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6898
45 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7479
44 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 7693
43 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8264
42 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 9420
41 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9658
40 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 9704
39 반응기의 면적에 대한 질문 12783
38 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. 13159

Boards


XE Login