안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.

다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.

RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.

초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.

1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?

2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4908
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16241
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63754
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83566
619 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 418
618 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 419
617 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 419
616 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 420
615 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 427
614 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 427
613 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 429
612 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 436
611 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 436
610 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 437
609 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 443
608 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 443
607 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 445
606 활성이온 측정 방법 [1] 447
» RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 447
604 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 449
603 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 449
602 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 450
601 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 454
600 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 455

Boards


XE Login