Matcher 매칭시 Shunt와 Series 값

2021.05.17 15:38

피했습니다 조회 수:506

안녕하세요. 반도체 장비 기업에 다니고 있는 엔지니어 입니다.

 

다름이 아니라 CCP 방식을 쓰는 장비를 운용하기 위해서 매칭을 하는데,

 

매칭을 잘? 혹은 효율적으로 빠르게 하기 위해서 처음에 Shunt, Series 값을 지정해 주고 있습니다.

 

그렇게 하래서 하고는 있는데 이 값들이 매칭에 어떤 영향을 끼치게 되는 것인지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2317
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12799
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49615
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61099
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 79282
599 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 365
598 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 371
597 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 372
596 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 374
595 활성이온 측정 방법 [1] 377
594 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 381
593 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 382
592 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 385
591 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 388
590 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 393
589 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 395
588 Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 395
587 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 399
586 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 402
585 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 405
584 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 408
583 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 410
582 RF matcher와 particle 관계 [2] 415
581 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 417
580 RF 전압과 압력의 영향? [1] 423

Boards


XE Login