안녕하세요 RPS 식각장비을 사용하는 중 문제가 발생하여 문의드립니다.


현재 RPS 장비를 이용한 폴리머 (SU-8, epoxy계열)의 식각 공정을 하는데, 주로 골드가 증착된 웨이퍼 위에 코팅한 폴리머를 지우는 용도로 쓰고있습니다.


사용하는 가스는 N2, O2, CF4 가스를 사용하고 있으며, 공정 조건은 0.45Torr 압력의 40도 공정조건을 사용하고 있습니다.


헌데 얼마전부터 에칭과정에서 골드기판이 손상되는 현상이 발생하였는데, 아직 그 원인을 찾지 못하고 있습니다. 이론적으로는 메탈이 손상될 일이 없어야하는걸로 알고 있습니다. 잠정적으로는. 폴리머 애칭시 생성되는 byproduct (HF) 에 의한 손상이라 생각되는데, HF의 높은 증기압을 생각하면 꼭 그렇지도 않은것 같고, 챔버의 벤팅문제라 생각되어 펌프를 정비받았으나, 이 또한 문제가 없다고 합니다. 


골드기판이 손상되는 경우에는 보통 풀라즈마 밝기가 평소보다 약하게 발생하는 특징이 있습니다. 이제는 플라즈마 정비 내부에 문제가 있다 생각이 되는데 교수님 의견을 듣고 싶습니다. 감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73080
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17644
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65737
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86107
627 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 516
626 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 521
625 RF 파워서플라이 매칭 문제 523
624 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 531
623 라디컬의 재결합 방지 [1] 531
622 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 536
621 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 540
620 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 541
619 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 544
618 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 546
617 Plasma Arching [1] 546
616 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 547
615 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 551
614 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 553
613 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 555
612 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 584
611 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 588
610 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 589
» RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 595
608 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 601

Boards


XE Login