안녕하세요. 반도체 회사에 재직중인 장비엔지니어 입니다.

 

에칭을 진행하는 특정 공정에서 특정 Step을 진행하는 중간에

 

60Mhz만 Ref가 튀면서 Bias Power도 튀는 현상이 있습니다..

 

27Mhz, 2Mhz도 사용하지만 해당 Power의 Ref는 정상이구요..

 

매쳐나 Generator를 바꿔봐도 현상이 똑같은거보면 chamber 내부에서 분위기가 달라지면서 발생하는 현상일 것 같은데

 

어떤 이유들이 이런 현상을 일으킬 수 있을까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4917
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16262
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51250
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63764
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83575
599 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 459
598 anode sheath 질문드립니다. [1] 460
597 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 464
596 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 472
595 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 480
594 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 482
593 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 484
592 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 484
591 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 488
590 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 489
589 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 495
588 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 498
587 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 508
586 Plasma Cleaning 관련 문의 [1] 509
585 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 518
584 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 522
583 standing wave effect에 대한 질문이 있습니다. [1] 522
582 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 524
581 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 527
580 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 532

Boards


XE Login