안녕하십니까, 항상 검색을 통해 다양한 정보를 얻을 수 있어 감사히 생각하고 있습니다.

 

ICP Etcher에서 Al (상하부 Ti) 식각할 때 Cl2+BCl3 베이스로 식각한 뒤

 

부산물인 AlCl3 또는 Cl 이온이 잔류한 상태로 대기에 노출되면 부식의 원인이 되기도 하고, 당장 부식이 생기지 않더라도 전기적 구동 평가시에 부식 또는 신뢰성 불량으로 이어질 수 있는 것으로 알고 있습니다.

 

따라서 저는 CF4, O2 플라즈마로 약 30~60초간 후처리하여 AlCl3를 AlF3로 치환하는 방식으로 이를 제어하고 있습니다.

 

1. 이처럼 잔류 이온을 컨트롤할 수 있는 또 다른 방법에는 어떤 것들이 있는지 궁금합니다.

(찾아보니 N2, H2O 플라즈마도 효과가 있다는데 N2는 어떤 원리인지 잘 모르겠네요.)

각종 연구실이나 기업 등에서는 어떤 방식으로 잔류 이온 제어(부식 방지)를 하고 있는지? 과거/최근 적용 사례나 연구 동향 등이 궁금합니다.

또는 새롭게 평가해볼만한 아이디어도 고민 중에 있습니다.

 

2. 단순히 최상부막 Metal에 남는 AlCl3 뿐만 아니라 하부막에 박히는 Cl 이온도 악영향이 있겠죠?

 

3. CF4 처리를 하더라도 AlF3나 하부막 F이온도 정도가 덜할 뿐 비슷한 side effect이 생길 것 같습니다. 애초에 잔류 Cl 이온을 줄이거나 완전히 제거할 수 있는 방법이 있을까요..?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
703 Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] 462
702 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 463
701 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 467
700 PECVD Uniformity [1] 468
699 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 469
698 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
697 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 474
696 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 477
695 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... 480
694 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] 492
693 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 496
692 PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] 505
691 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 508
690 self bias [1] 514
689 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 515
688 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 526
687 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 536
686 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 536
685 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 538
684 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542

Boards


XE Login