Others RPC CLEAN 시 THD 발생
2018.10.25 14:48
안녕하세요 반도체 장비업체에서 일하고 있는 사람입니다.
현재 저희 설비에 2개의 CHAMBER가 달려 있습니다. RPC CLEAN을 사용하는 장비인데
두 CH가 동시에 CLEAN이 동작하게되면 공급단 POWER 관련하여 지속적인 ERROR 가 발생을 합니다.(따로 진행시 문제 없음)
고조파 측정시 2개의 CH가 동시에 CLEAN 진행시 높아지는 현상을 발견 하였으나, 그 원인을 찾기 힘들어 질문 드립니다.
POWER CABLING이 의심 되는 상황이나, CABLE 길이 및 위치, 혹은 말림 정도가 영향이 있는지 문의 드리고, 혹시 이 외에 다른 원인을 추측할만한 내용이 있을지 질문 드립니다.
현재 CABLE 연결 상태 및 POWER SUPPLY(설비단) 교체 등 다른 방법을 진행 해 보았으나, 현상이 동일하게 발생하여 설비단 보다는 공급단쪽 POWER를 의심하고 있는 상태 입니다.
혹시 이 글과 관련된 경험이 있으신분은 답변 부탁 드리겠습니다.
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76543 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20078 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57116 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68615 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91697 |
703 | Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유 [1] | 462 |
702 | 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] | 463 |
701 | Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. | 467 |
700 | PECVD Uniformity [1] | 468 |
699 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 469 |
698 | 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] | 469 |
697 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 474 |
696 | (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] | 477 |
695 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 480 |
694 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 492 |
693 | 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] | 496 |
692 | PECVD설비 Matcher 아킹 질문 [2] | 506 |
691 | Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] | 508 |
690 | self bias [1] | 514 |
689 | 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] | 515 |
688 | Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] | 526 |
687 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 536 |
686 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 536 |
685 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 538 |
684 | Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] | 542 |
제 생각에는 2개의 chamber가 cross talk을 하는 것 같습니다. Rf shield 와 ground 부분의 강화가 필요하지 않을까 합니다만,
경험자 및 전문가의 의견을 기다리겠습니다.